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包含高性能濺射靶材、蒸鍍材料、熱沉材料、離子注入件、MOCVD加熱部件
編號(hào):
ITO（Indium Tin Oxide）靶材是指由錫、銦、氧三種元素組成的化合物靶材，具有優(yōu)異的導(dǎo)電、透明性能和化學(xué)穩(wěn)定性。
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氧化銦靶
ITO靶
編號(hào):
5N高純鎢粉 歐泰專產(chǎn)半導(dǎo)體 電子級(jí) 離子注入用高純鎢粉<br>
規(guī)格：3-5um<br>
純度：4N-6N<br>
用途：用于制備高純鎢靶和高純鎢合金靶材，制備硬質(zhì)合金工具，粉末冶金，金剛石工具，高比重合金，觸頭，難熔合金。鎢合金，如鎢鉬合金、鎢錸合金、鎢銅合金和高密度鎢合金等<br>
產(chǎn)品特性：高比重，耐高溫，硬度高
<br>
<a href="tel:18608419172" style="color:red;font-weight: bold;">聯(lián)系人：張經(jīng)理 18608419172 微信同號(hào)</a>
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高純鎢
高純鎢粉
鎢粉
鎢靶
高純鎢粉
高純難熔金屬
靶材鎢粉
高純金屬添加劑
高純鎢粉廠家
高純難熔金屬
高純金屬添加劑
編號(hào):
1、純度：99.95%；99.99%;99.999%<br />
2、密度：? ≥19.1g/cm3；<br>
3、平整度：≤2%；?<br />
<a href="tel:18608419172" style="color:red;font-weight: bold;">聯(lián)系人：張經(jīng)理 18608419172 微信同號(hào)</a>
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鎢靶 高純鎢靶
鎢濺射靶材
金屬靶材廠家
靶材供應(yīng)商
濺射鎢靶
鎢合金靶
半導(dǎo)體靶材
高純鎢靶
濺射鍍膜靶材
PVD靶材
編號(hào):
執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn)：ASTM B 365? GB/T26012-2010<br>
牌號(hào)：Ta1，Ta2
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純度:99.95%??? 99.99%
<br>
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高純鉭棒
高純鉭條
高純鉭
編號(hào):
釕靶主要用于真空鍍膜領(lǐng)域<br>
純度：99.95%<br>
用途：真空鍍膜，實(shí)驗(yàn)或研究級(jí)別用釕靶材，電子，光電，軍用，裝飾鍍，功能薄膜等
<br>
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釕靶
釕濺靶材
貴金屬釕靶
釕靶生產(chǎn)廠家
釕靶供應(yīng)商
釕合金靶
濺射釕靶
半導(dǎo)體靶材
高純釕靶
濺射鍍膜靶材
PVD靶材
編號(hào):
根據(jù)使用目的不同，對(duì)高純鎢靶和鎢鈦靶雜質(zhì)含量有不同要求，一般要求化學(xué)純度在99.99%～99.999%之間，我們也可根據(jù)用戶要求特別定制適合應(yīng)用的其它規(guī)格。
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<a href="tel:18608419172" style="color:red;font-weight: bold;">聯(lián)系人：張經(jīng)理 18608419172 微信同號(hào)</a>
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鎢鈦靶
鎢鈦合金靶
鎢鈦濺射靶
合金靶廠家
濺射靶材廠家
濺射鎢鈦靶
半導(dǎo)體靶材
高純鎢鈦靶
濺射鍍膜靶材
PVD靶材
編號(hào):
銥錠、銥顆粒?Ir≥99.95%<br>
尺寸：直徑D（1-20）*高度H（10-15）mm；需方如對(duì)尺寸和單重如有特殊要求，雙方協(xié)議訂貨<br>
用途：主要用于蒸發(fā)鍍膜材料<br>
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?
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銥顆粒
銥粒
銥圓柱
銥蒸鍍材料
銥蒸發(fā)鍍膜顆粒
銥蒸鍍顆粒
銥蒸鍍材料
銥蒸發(fā)鍍膜材料
編號(hào):
純度:99.9%，致密度達(dá)到理論密度95%以上<br />
合金配比依據(jù)客戶需求
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規(guī)格:平面靶、矩形靶、階梯靶，可根據(jù)要求定做、<br>
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鎢鎳鉻靶
濺射鎢鎳鉻靶
鎢鎳鉻合金靶
半導(dǎo)體靶材
高純鎢鎳鉻靶
濺射鍍膜靶材
PVD靶材
鎳鉻靶
鎳鉻靶
編號(hào):
化學(xué)純度：99.99%<br>
尺寸：直徑1～30mm，厚度1～30mm按要求定制<br>
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銀顆粒
銀蒸鍍材料
銀蒸發(fā)鍍膜材料
銀錠
編號(hào):
銠錠|粒?Rh≥99.95%<br>
規(guī)格：直徑 1 ~ 30mm,?厚度?1 ~ 30mm 或定制<br>
性質(zhì)：性質(zhì)：銀白色金屬，質(zhì)極硬，耐磨，也有相當(dāng)?shù)难诱剐?lt;br>
編號(hào):
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銠錠
銠顆粒
銠蒸發(fā)鍍膜顆粒
貴金屬銠
高純銠顆粒
銠蒸發(fā)鍍膜材料
蒸鍍材料
高銠錸顆粒
蒸發(fā)鍍膜
蒸發(fā)料
編號(hào):
鉭靶材通常與銅背靶進(jìn)行焊接，然后進(jìn)行半導(dǎo)體或光學(xué)濺射，將鉭原子以氧化物形成淀積在基板材料上，實(shí)現(xiàn)濺射鍍膜;鉭靶材主要應(yīng)用于半導(dǎo)體鍍膜、光學(xué)鍍膜等行業(yè)。
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鉭靶
鉭濺射靶材
金屬鉭靶
鉭靶材料制造商
編號(hào):
純度規(guī)格：99.95%；99.98%<br>
密度：≥10.10g/cm3<br>
組織：平均晶粒度小于150微米，典型靶材及表面組織<br>
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鉬靶
鉬濺射靶
金屬鉬靶
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