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| 光電行業(yè)真空鍍膜耗材解決方案

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真空鍍膜有三種形式：蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜、離子鍍，是目前以物理氣相沉積法（PVD）方式實(shí)現(xiàn)膜生長(zhǎng)的主流技術(shù)。歐泰稀材生產(chǎn)供應(yīng)各類形態(tài)的高純金屬蒸發(fā)料、濺射靶材，確保用戶得到好的鍍膜品質(zhì)。

產(chǎn)品編號(hào)

所屬分類

解決方案

數(shù)量

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產(chǎn)品描述

參數(shù)

方案優(yōu)勢(shì)

Solution advantages

蒸發(fā)鍍膜
通過在真空中加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其產(chǎn)生金屬蒸氣沉積（凝聚）在固體表面成為薄膜。

濺射鍍膜
用高能粒子轟擊被沉積材料（靶材）表面，使靶材表面粒子獲得能量并逸出表面，而后沉積在基片上獲得薄膜。

離子鍍
被蒸發(fā)物質(zhì)的分子（原子）被電子碰撞電離后，以離子形態(tài)沉積在基片表面生成薄膜。

未找到相應(yīng)參數(shù)組，請(qǐng)于后臺(tái)屬性模板中添加

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核能、核電、核工業(yè)領(lǐng)域用材解決方案

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半導(dǎo)體設(shè)備MOCVD熱場(chǎng)解決方案

方案組合

Product portfolio

錸靶錸濺射靶材

規(guī)格：純度Re≥99.99%~99.999%，形狀、尺寸、密度接受各種定制產(chǎn)品。
錸靶材用于磁控濺射鍍膜，磁控濺射鍍膜是一種新型的物理氣相（PVD）鍍膜方式，相比于蒸發(fā)鍍膜方式，其在很多方面有相當(dāng)明顯的優(yōu)勢(shì)，作為一項(xiàng)已經(jīng)發(fā)展得較為成熟的技術(shù)，磁控濺射已經(jīng)被應(yīng)用于許多領(lǐng)域，比如在半導(dǎo)體集成電路、太陽能光伏、記錄介質(zhì)、平面顯示以及工件表面涂層等方面都得到了廣泛應(yīng)用。

聯(lián)系人：張經(jīng)理 18608419172 微信同號(hào)

鎢靶高純鎢靶

1、純度：99.95%；99.99%;99.999%
2、密度：? ≥19.1g/cm3；
3、平整度：≤2%；?
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鎢鈦靶

根據(jù)使用目的不同，對(duì)高純鎢靶和鎢鈦靶雜質(zhì)含量有不同要求，一般要求化學(xué)純度在99.99%～99.999%之間，我們也可根據(jù)用戶要求特別定制適合應(yīng)用的其它規(guī)格。

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鎢錸靶 X射線管陽極旋轉(zhuǎn)靶

我司采用固液法混料提高錸的均勻性，同時(shí)通過多次鍛打和退火提高密度和改善組織，提高陽極靶的使用性能和壽命。

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釕靶釕濺射靶材

釕靶主要用于真空鍍膜領(lǐng)域
純度：99.95%
用途：真空鍍膜，實(shí)驗(yàn)或研究級(jí)別用釕靶材，電子，光電，軍用，裝飾鍍，功能薄膜等

銥靶銥濺射靶材

純度:?3N5
尺寸?:?1-10英寸，非常規(guī)尺寸可定做
用途:銥的高溫抗氧化性和熱電性能使銥/銥銠熱電偶成為惟一能在大氣中測(cè)量達(dá)2100℃高溫的貴金屬測(cè)溫材料

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鋨靶鋨濺射靶材

化學(xué)純度：99.95%
尺寸：直徑20～300mm，厚度1～60mm按要求定制
應(yīng)用：鋨靶主要用于真空鍍膜領(lǐng)域???

鎢鎳鉻/鎢鎳/鎳鉻靶

純度:99.9%，致密度達(dá)到理論密度95%以上
合金配比依據(jù)客戶需求
規(guī)格:平面靶、矩形靶、階梯靶，可根據(jù)要求定做、

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錸錠錸粒錸顆粒

分類：根據(jù)使用要求不同，錸粒按物理性能分為“高致密度錸?！焙汀爸兄旅芏儒n粒”按化學(xué)成分分為“4N高純99.99%”和“5N99.999%”兩個(gè)規(guī)格。
外觀：圓柱或方塊狀，中致密度錸粒|錠呈深灰色，高致密度錸粒|錠呈亮銀色，有金屬光澤。
應(yīng)用：中致密度錸粒可用作超高溫合金制造中的錸元素添加劑；高致密條可用作制造棒材、絲材或高溫結(jié)構(gòu)件。

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釕粒/錠

釕錠，分子式：Ru，圓柱體或其他定制形狀。?
純度：99.95% 99.98% 99.99%
應(yīng)用：釕錠通常作為合金元素添加劑用于制造航空用高溫合金。

鋨顆粒鋨錠

化學(xué)純度：99.95% 99.98%
尺寸：直徑9.5*高8mm?或按要求定制

銠顆粒

銠錠|粒?Rh≥99.95%
規(guī)格：直徑 1 ~ 30mm,?厚度?1 ~ 30mm 或定制
性質(zhì)：性質(zhì)：銀白色金屬，質(zhì)極硬，耐磨，也有相當(dāng)?shù)难诱剐?br>

銥顆粒銥錠

銥錠、銥顆粒?Ir≥99.95%
尺寸：直徑D（1-20）*高度H（10-15）mm；需方如對(duì)尺寸和單重如有特殊要求，雙方協(xié)議訂貨
用途：主要用于蒸發(fā)鍍膜材料

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高純鉬粉低鉀3N8高純鉬粉

歐泰專門為電子材料用戶定制電子級(jí)靶材用4N高純鉬粉,低鉀鎢含量3N8高純鉬粉,用于高品質(zhì)濺射鉬靶,鉬鈮合金靶,電子漿料,等離子注入用鉬材等對(duì)鉬材純度要求較高的行業(yè)領(lǐng)域

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99.99%-99.999%高純鎢粉

5N高純鎢粉歐泰專產(chǎn)半導(dǎo)體電子級(jí) 離子注入用高純鎢粉
規(guī)格：3-5um
純度：4N-6N
用途：用于制備高純鎢靶和高純鎢合金靶材，制備硬質(zhì)合金工具，粉末冶金，金剛石工具，高比重合金，觸頭，難熔合金。鎢合金，如鎢鉬合金、鎢錸合金、鎢銅合金和高密度鎢合金等
產(chǎn)品特性：高比重，耐高溫，硬度高
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